<図書>
Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California / Phillip D. Blais, chairman/editor
(Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 632)
データ種別 | 図書 |
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出版者 | Bellingham, Wash., USA : SPIE--the International Society for Optical Engineering |
出版年 | c1986 |
大きさ | vi, 272 p. : ill. ; 28 cm |
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配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 利用注記 | 予約 |
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東京西 2F一般 | pbk. | 549.8/E45 | 8901178619 |
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089252667X |
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書誌詳細を表示
本文言語 | 英語 |
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別書名 | 異なりアクセスタイトル:Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies V |
一般注記 | Includes bibliographies and index |
著者標目 | Blais, Phillip D. Society of Photo-optical Instrumentation Engineers |
件 名 | LCSH:Lithography, Electron beam -- Congresses
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LCSH:X-ray lithography -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Ion beam lithography -- Congresses 全ての件名で検索 |
分 類 | LCC:TK7874 DC19:621.3815/2 |
書誌ID | 2000062465 |
ISBN | 089252667X |
NCID | BA24022792 |