＜図書＞
Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies IV : March 14-15, 1985, Santa Clara, California / Philliip D. Blais, chairman/editor ; cooperating organization, the International Society for Hybrid Microelectronics
(Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 537)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | Bellingham, Wash., USA : SPIE--the International Society for Optical Engineering |
| 出版年 | c1985 |
| 大きさ | vi, 219 p. : ill. ; 28 cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 利用注記 | 予約 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 東京西 2F一般 | pbk. | 549.8/E45 | 8901158769 |
|
089252572X |
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| 本文言語 | 英語 |
|---|---|
| 一般注記 | Includes bibliographies and index |
| 著者標目 | Blais, Phillip D. International Society for Hybrid Microelectronics |
| 件 名 | LCSH:Lithography, Electron beam -- Congresses
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LCSH:X-ray lithography -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Ion beam lithography -- Congresses 全ての件名で検索 |
| 分 類 | LCC:TK7874 DC19:621.3815/2 |
| 書誌ID | 2000062464 |
| ISBN | 089252572X |
| NCID | BA00226980 |