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<図書>
Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California / Phillip D. Blais, chairman/editor
(Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 632)

データ種別 図書
出版者 Bellingham, Wash., USA : SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版年 c1986
大きさ vi, 272 p. : ill. ; 28 cm

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東京西 2F一般 pbk. 549.8/E45 8901178619
089252667X

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本文言語 英語
別書名 異なりアクセスタイトル:Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies V
一般注記 Includes bibliographies and index
著者標目 Blais, Phillip D.
Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
件 名 LCSH:Lithography, Electron beam -- Congresses  全ての件名で検索
LCSH:X-ray lithography -- Congresses  全ての件名で検索
LCSH:Ion beam lithography -- Congresses  全ての件名で検索
分 類 LCC:TK7874
DC19:621.3815/2
書誌ID 2000062465
ISBN 089252667X
NCID BA24022792

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