＜図書＞
Applications of plasma processes to VLSI technology / edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-gun Kim
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | New York : Wiley |
| 出版年 | c1985 |
| 大きさ | xiv, 394 p. : ill. ; 24 cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 利用注記 | 予約 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 東京西 2F一般 |
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549.7/Su25 | 9904049187 |
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0471869600 |
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書誌詳細を表示
| 本文言語 | 英語 |
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| 別書名 | 原タイトル:Handōtai purazuma purosesu gijutsu |
| 一般注記 | Translation of: Handōtai purazuma purosesu gijutsu "A Wiley-Interscience publication." Bibliography: p. 369-389 Includes index |
| 著者標目 | 菅野, 卓雄(1931-) <スガノ, タクオ> |
| 統一書名標目 | Handōtai purazuma purosesu gijutsu |
| 件 名 | LCSH:Semiconductors -- Etching
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LCSH:Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching LCSH:Vapor-plating |
| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC19:621.381/73 |
| 書誌ID | 2000073786 |
| ISBN | 0471869600 |
| NCID | BA0724373X |