<図書>
Ion implantation, sputtering and their applications / by P. D. Townsend, J. C. Kelly, N. E. W. Hartley
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版情報 | London ; New York : Academic Press , 1976 |
| 大きさ | ix, 333 p. : ill. ; 24 cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 登録番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 利用注記 | 予約 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 東京西 2F一般 |
|
427/To77 | 9704028191 |
|
0126969507 |
|
書誌詳細を表示
| 本文言語 | 英語 |
|---|---|
| 一般注記 | Includes bibliographies and index |
| 著者標目 | *Townsend, Peter David Kelly, J. C. (John Clive) joint author Hartley, W. N. joint author |
| 件 名 | LCSH:Ion implantation LCSH:Sputtering (Physics) |
| 分 類 | LCC:QC702.7.I55 DC:530.4/1 |
| 書誌ID | 2000066286 |
| ISBN | 0126969507 |
| NCID | BA07511624 |
